科研實驗專用氧化銅靶材CuO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

氧化銅（CuO）是一種銅的黑色氧化物，略顯兩性，稍有吸濕性。不溶于水和乙醇，溶于酸、氯化銨，氨溶液中緩慢溶解，能與強堿反應。氧化銅主要用于制人造絲、陶瓷、釉及搪瓷、電池、石油脫硫劑、殺蟲劑，也供制氫、催化劑、綠色玻璃等用。

產品參數

中文名稱：氧化銅

中文別名：氧化銅粉; 線狀氧化銅; 納米氧化銅;

英文名稱：Cupric oxide

CAS號：1317-38-0

分子式：CuO

分子量：79.54540

精確質量：78.92450

PSA：17.07000
外觀與性狀：黑色結晶粉末

密度：6.315g/cm3

熔點：1326oC

沸點：1026oC (decomp)

折射率：2.63

純度 99.9%

穩定性：穩定。 與還原劑，硫化氫，鋁，堿金屬，金屬細粉末不相容。

儲存條件：庫房低溫,通風,干燥,與食品原料分開存放
用途
 
氣體分析中測定碳。有機反應催化劑。制造人造絲和其他銅化合物。光學玻璃發光劑。作為色料用于人造寶石、
有色玻璃、陶瓷釉彩
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！ 
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。