半導體參數測試儀是一種用于物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器。

　　一、半導體參數測試儀的SLM+PLM組合光學架構介紹：

　　（1）基于高精度DMD的SLM空間光調制激光直寫和PLM相位調制

　　（2）頻閃平鋪光斑曝光FlashTileBeamLithography(FTBL)

　　（3）支持500nm分辨率的任意圖形和100nm的特征圖形光刻

　　（4）運行效率比傳統采用Scanning的激光直寫系統提高數倍以上

　　（5）多寫入模式（頻閃光斑平鋪曝光、灰度曝光、拖曳掃描和矢量掃描）的選擇能夠針對

　　二、半導體參數測試儀的不同的應用需求優化圖形與微結構的性能：

　　（1）海量數據處理和全尺寸覆蓋

　　（2）最大支持110"數據處理

　　（3）SLM空間光調制，數據處理速率達30000幀/秒

　　（4）PLM位相調制，數據處理速率達30000幀/秒可以滿足2"-110"基板的直寫光刻

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