半導體行業用超純水設備工藝

半導體行業用超純水設備采用國際主流先進可靠產品,采用PLC 觸摸屏控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。

半導體行業用超純水設備工藝

預處理→UF系統→一級反滲透→PH調節→級間水箱→二級反滲透→中間水箱→中間水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→EDI裝置→氮封水箱→增壓水泵→拋光混床→循環增壓泵→用水對象(≥18MΩ.CM)

半導體行業用超純水設備特點

為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命,降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器,精密過濾器等預處理系統,RO反滲透主機系統,離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統,水泵均設有壓力保護裝置,在線水質檢測控制儀表,電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。

半導體行業用超純水設備參數

1.原水水源(自來水,地下水井水,河水,湖水...),除了自來水,其它的水源,需要提供水質報告,水源不一樣,處理工藝不一樣,費用就有很大的差別；

2.配置(需要高端配置還是一般配置,就是指水泵有國產的還是進口的,反滲透膜用海德能的還是陶氏的...)；

3.控制(用PLC全自動控制,還是手動控制)；

4.出水水質要達到什么標準,電阻率要達到多少,有什么用途,如果不知道,也沒關系,告訴我們您是做什么產品的,我們做給您設計出完全符合您生產要求的方案；